研究员担任光刻胶研究所所长，夏季常教授担任光刻机双工作台系统研究所所长，陈运复研究员担任刻蚀机研究所所长，杨鸿涛教授担任光刻机热处理研究所所长，郭兴程研究员担任掩膜版研究所所长，景清云教授担任离子注入机研究所所长，李广均研究员担任光刻机半导体信息部部长。
四十八岁的物理学博士杨鸿涛教授来自于华清大学热处理研究所。
四十八岁的计算机博士李广均研究员来自中院计算机研究所。
四十七岁的材料学博士郭兴程研究员来自中院冰城材料研究所。
四十五岁的华清物理学博士、副研究员钱富强的研究方向就是光刻机光源、rf准分子激光器，专门请他回到光刻机光源研究所担任所长助理，协助邓国辉继续研究arf准分子激光器。
四十三岁的西工大材料学博士、副研究员邓中海研究硅片制造，担任硅片制造研究所所长助理，协助欧阳民研发硅晶圆制造。
四十一岁的华清半导体博士、副研究员张国伟研究光刻胶，担任光刻胶研究所所长助理。
三家研究所人才济济，不少是国内光刻机半导体方面的领军人物！
人才有了，资金有了，拥有国际一流设备和材料的研究院有了，但没有重生者指引方向，be上下齐心，也追不上nin半导体设备公司。
人才和技术需要沉淀和积累，双方的实力相差太远！
在新进口2500万美元先进机器设备和材料到位，研制成功磁悬浮式双工作台系统，be能独立完成15u制程工艺的制定规格、选择架构、逻辑设计、电路设计、布线、制造、测试、封装和总测试等九道工序，能生产一条具有自主知识产权的4英寸晶圆和15u制程工艺的半导体生产线。
be如今的最高水平，只能生产西方光刻机半导体设备公司十年前淘汰的半导体生产线！
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