式双工作台系统专利技术也属于bec。
一旦bec研制成功arfi准分子激光器，即使瓦纳协定出台，美国就不能在arfi准分子激光器上卡bec的脖子，除非gca也不用磁悬浮式双工作台系统专利技术和浸没式光刻系统专利技术。
虽然tic持有zei&nbp;mt&nbp;ag四成的股权，bec如今也能买到zei&nbp;mt&nbp;ag生产的1um、800nm、00nm，甚至30nm制程工艺的光刻机光学系统，但随着瓦纳协定出台，zei&nbp;mt&nbp;ag到时也不敢供应bec最先进的光刻机光学系统，未雨绸缪，重生者希望bec光刻机光学系统研究所在副院长兼所长陈伟长的率领下，尽早的攻克1um制程工艺的光刻机光学系统，到时，bec就有了立身之本。
国内将是全球最大的电器、电脑和通讯等产品的制造中心和最大的市场，6英寸晶圆和1um制程工艺的光刻机在国内还有很大的市场。
在光刻机三大核心技术中，bec的光刻机光学系统相对最弱，陈伟长在全球范围内高薪招聘光刻机光学系统方面的高端人才。
自从gca重新登顶光刻机世界之巅，全球多家半导体设备和晶圆公司预定了台gca300b，产品供不应求，投资者也蜂拥而至，gca昨天收盘.41美元，1.美元参与定向增发的机构投资者赚得盆满钵满。
gca一旦率先研制成功0nm制程工艺的光刻机，股价超过10美元都不是梦。
gca光刻机光源研究所如今有94人，超过鼎盛时期的人数，近七成是博士，人才济济，光刻机半导体研究院院长兼光源研究所所长古特雷斯院士还在全球范围内高薪引进高端研发人才。