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第一一一六章 不同意(1 / 2)

gca当时投入研发ev技术项目的3000万美元经费,可以收购al40的股权,不是一笔小数目!

gca当时账上的现金流只剩下300多万美元,公司要花钱的地方多的是。

孙健前世在互联网上看过不少有关alev光刻机的文章,作者纷纷感叹研发和生产ev光刻机之难难于上青天,被称为外星人的科技水准,是迄今为止人类科技领域所能达到的最尖端技术,没有之一。

为了打破封锁,投入巨资,举国之力也没有看见成果。

前世90年代末,干式193n波长光刻机遇到了65n制程工艺的极限,再往下就寸步难行,如何跨入40n制程工艺?成为阻挡所有光刻机等半导体厂商的世界性难题,科学家和产业界提出了各种超越193n波长的方案,其中包括157n2激光,电子束投射(epl),离子投射(pl)、ev(135n)和光等。

相对而言,157n2激光的技术难度稍低,不少公司开始下注157n2激光,其中尼康和vg在这个技术路线走的最远,是最接近商业化量产的两家公司。

几年后,al收购了vg,也拥有了157n2激光技术,又砸下数亿美元进行研发,此外al也还尝试开发ev光刻机。

财大气粗的英特尔一开始就倾向于激进的ev(135n)方案,希望彻底解决光刻机的波长世界性难题,集中全球顶尖科技精英一起愚公移山,他们说服对高科技开明的克林顿内阁,发起成立了evllcev有限责任公司。

evllc由英特尔和美国能源部牵头,集中了当时如日中天的摩托罗拉、b和ad,以及享有盛誉的美国三大国家实验室:劳伦斯利弗莫尔实验室、劳伦斯伯克利实验室和桑迪亚国家实验室,集中数百位世界顶尖科学家,投资2亿美元研发经费,从理论上验证ev可能存在的技术问题。

英特尔当时打算邀请光刻机行业第一、第二位的nkn和al加入evllc,但美国政府担心最前沿的光刻机技术落入外国公司手中,反对nkn和al加入。

al为了表现诚意,同意在美国建立一所工厂和一个研发中心,以此满足所有美国本土的产能需求,另外,还保证55的零部件均从美国供应商处采购,并接受定期审查,做出多项让步后,最后成功加入evllc,能够享受其基础研究成果,nkn却没有机会加入,失去了同al竞争的机会。

几年之后,终于论证了ev的可行性,于是evllc的使命完成,公司解散,各个成员踏上独自研发之路。

al加入evllc后,享受到的研究成果大大加快了其ev的研发进度,2005年摩尔定律陷入停滞,极紫外光刻技术被认为是制程突破10n制程工艺的关键,但由于ev光刻机几乎逼近物理学、材料学以及精密制造的极限,光源功率要求极高,透镜和反射镜系统也极致精密,还需要真空环境,配套的抗蚀剂和防护膜的良品率也不高,别说是对日本与荷兰,就算是科技全球第一的美国,举国之力独自突破这项世界最尖端的技术,也是痴人说梦。

由于技术难度极高,需要巨额的研发资金,尼康和佳能只得选择放弃,彻底沦为中低端光刻机厂商。

al成为唯一的候选人!

al以23的股权得到英特尔、三星和台积电的53亿欧元的研发ev光刻机的资金,而这三家客户也因此获得优先供货权。

al也成为美国大财团控股的荷兰高科技公司!

从1997年,英特尔和美国能源部牵头成立evllc开始,到孙健重生前的2017年,al才成功量产第一台ev光刻机,集中全球物理学、材料学和精密制造极限的技术成果,还用了整整20年的时间!

ev光刻机研制成功之难难于上青山不是一句调侃!

孙健预测再投入1亿美元,汤普森团队就是能研究成功ev,在ev光刻机这种人类技术最复杂的宏伟工程面前,gca即使耗费几十亿美元的研发经费,也不可能独自生产成功,要集中全球最顶尖的物理学、材料学和精密制造等科技成果,也只有美国才有这样的组织能力。

gca生产高端光刻机,bec生产中低端光刻机,这是收购gca时,孙健给两家公司的定位,不以他的意志为转移。

gca重获新生,al将失去进入evllc的机会,al独自研制成功ev光刻机如同痴人说梦话,bec也不能!

苏联解体后,以俄罗斯为首的东欧国家已经倒向西方阵营,同我们友好的国家,其经济和科技实力都不强,在如今的科技和经济条件下,举国之力,bec研制ev光刻机,没有20年,也看不到成果。

重生者又不是神仙!

在美国政府和高科技公司的技术和资金支持下,全球只有gca才有可能研制成功ev光刻机,不然,耗费的研发资金就有可能拖垮gca。

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