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euv光刻机被称为人类工业皇冠上的明珠！
汤普森院士团队虽然没有研制成功euv，但研究成果对ga的光源和光学精密设备的不断改进贡献极大。
由于孙健重生，濒临破产倒闭的ga浴火重生，重回全球光刻机的龙头企业之一，成为euv联盟的重要成员，汤普森院士团队专门研究euv光源7年，取得了不少重要技术成果，euv联盟研制成功euv光刻机，肯定不需要15年。
ga将成为全球唯一生产euv光刻机的厂家，ati将成为最大的受益者，虽然孙健也乐见其成，但以美国人的性格，极有可能让ati交出ga的控股权，严禁出口euv到中国，这不是重生者愿意看到的结果。
前世被美国技术封锁，举国之力，孙健穿越前没有看到国产euv光刻机的影子。
经过一年多的努力，be已经研究成功8英寸晶圆、250n制程工艺的光刻机，正在抓紧时间研制180n制程工艺的光刻机。
制程工艺不断突破对be来说都是突飞猛进的进步，但同nin和ga相比，还有2代技术差距，没有大肆宣传，避免被仇视中国的美国国会议员盯上。
不到10年时间，从4代技术差距缩短到2代，be的管理层和技术人员都尽力了。
孙健知道，要是没有65n制程工艺这道难关挡在光刻机业界的前面，有他出钱出力，be在15年内也很难赶上光刻机技术实力雄厚的ga和nin。
连李昌杰都不知道，be研究院院长邓国辉院士和所长钱富强研究员率领光源研究所的140多名研发人员，经过2年半的潜心研究，有孙健不断「点拨」，终于在去年7月研制成功浸没式光刻系统技术，arf激光器发射的193n光源通过纯净水的折射，得到了波长134n的光源，解决了业界遇到的193n波长的世界级难题，还没有申请公司发明专利，秘而不宣。
只能委屈钱富强和140多名研发人员了。
研究员钱富强凭借主持研发成功浸没式光刻系统技术，攻克这项光刻机光源上的世界级难题，凭借这一世界级的重大科研成果，就能申请工程院院士。
邓国辉和钱富强从去年8月开始立项，be投资1亿元，带领光源研究所，静下心来开始研发euv。
作为上市公司，be发布公告，投资1亿元继续研究193n波长的世界级难题。
即使能得到蔡司公司最先进的透镜和反射镜系统，有资金支持，孙健也怀疑be研究院在20年内能否研制成功euv光刻机？
停止研究也不可能买到euv光刻机，20年不行，30年！
「李总，布罗迪先生，余总已经拿到美国商务部的同意文件，我们明天前往美国，180n制程工艺的半导体生产线的基建要加快进度，增加人手，保证11月底完工。」
孙健今天参观的这条be研发和生产的500n制程工艺半导体生产线的建设工程已经到了设备安装阶段，按照规划，7月下旬将进行试生产。
「好的，董事长！」
「好的，董事长！」
李昌杰和布罗迪都笑了，他们从心底敬佩孙董事长的精
明和胆识。
pga这次从ga购买一条180n制程工艺的半导体生产线是为国智电脑公司生产gz-x3准备的，从3月初提交购买申请，pga就已经开工大规模基建项目，孙董事长笃定美国商务部这次不会反对ga的出口申请。
陈永清院士率领国智pu研究所台式机pu研发部的600多名研发人员，从去年10月4日就开始研制比肩pentiu3和athn700的gz-x3。
gz-x3设计采用双重独立总线结构，内部集成1000万个晶体管，频率从500hz开始，后期可以达到1ghz以上，采用180n制程工艺生产。
研发费用25亿元，耗时10个月。
按照规划，国智pu研究所今年9月前就能研发成功gz-x3，到时候有米没有锅！
这条180n制程工艺的半导体生产线的基建规模庞大，要是放在美国，最少需要12个月的时间，顺圆地产（京城）集团集中力量，日夜施工，争取在6个月内完成基建工程，进入设备安装阶段，8个月后进行试生产。
ga提前准备好全套设备，提前运往国内。
不是孙健不想提前购买，也不